인텔은 최근 자사의 임베디드 기술을 사용하는 고객들을 위해 임베디드 노어 플래시 제품 생산을 65나노 공정 기반으로 전환할 계획이라고 밝혔다.
인텔은 65나노 공정 제품은 OEM업체들이 임베디드 시장 관련 제품을 개발하는데 있어 중요한 사항인 가격 대비 성능을 향상시키고, 제품 수명 주기를 연장하는데 도움을 줄 것이라고 전했다. 가전제품, 유선 통신 장비 및 산업용 애플리케이션에 사용되는 인텔의 65나노 제품들은 2008년 상반기 중 고객들에게 샘플이 제공될 예정이다.
임베디드 시장을 대상으로 하는 인텔 노어 제품군에는 일반적으로 병렬 및 시리얼 솔루션이 모두 포함된다. 인텔 스트라타플래시(StrataFlash) 임베디드 메모리 (P30/P33)는 비트 당 비용이 가장 낮은 고집적, 고성능의 싱글칩 코드이자 데이터 솔루션이다.
인텔 임베디드 플래시 메모리(J3 v.D)는 드롭인(drop-in) 호환을 통해 레거시 디자인을 위한 업그레이드 경로를 제공해 준다. 이 제품의 강화된 기능들은 확장성을 필요로 하는 메인스트림 임베디드 애플리케이션을 지원한다.
인텔 시리얼 플래시 메모리(S33)는 보드 디자인을 간소화시키고 보드 공간 활용도를 높여, TV, DVD, PC, 모뎀 및 프린터와 같은 다양한 애플리케이션들을 위한 LPC 인터페이스와 소형 패키지를 구현한다.

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